CC-TAIX11 原图拍摄有质保

描述

CC-TAIX11

继电器输出电路(MR)
优势：继电器输出可通过交流和直流，一般负载AC250V/50V以下，负载电流可达2A，因此，PLC的输出一般不宜直接驱动大电流负载（一般通过一个小负载来驱动大负载，如PLC的输出可以接一个电流比较小的中间继电器，再由中间继电器触点驱动大负载，如接触器线圈等）。
劣势：继电器触点的使用寿命也有限制（一般数十万次左右，根据负载而定，如连接感性负载时的寿命要小于阻性负载）。此外，继电器输出的响应时间也比较慢（10ms）左右，因此，在要求快速响应的场合不适合使用此种类型的电路输出形式。

对微拉机控制的要求有别于退火控制系统，尽管两个系统有一定的相似之处，退火系统在控制要求方面更加强调排线的效果，因为成品丝目前主要市场是在国外，国外厂家用户对于排线的要求非常高，以保证在倒丝时不会出现叠丝和绕丝的现象，相比之下微拉机则更加注重张力的控制，因此两个控制系统在控制要求谁是有差别的。但它们有相似之处，以往的微拉退火设备在电气传动方面要求比较简单，设备的左右两边一般各10个头，共20个单元。每边只有一套电气设备（收丝、排线），其它全部是机械联动，所以导致在生产过程中，如果有一个头断丝或者出现问题，该单元不能单独停止工作，要停止工作只能20个头或10个头都全部停止，以进行故障处理，排除故障后再启动机器运行，因此影响生产效率。此外不能同时将不同规格的丝进行同时退火，很不灵活，加上机械的磨损，使得排线参差效果不齐，控制效果极差。在这种情况下，设备厂家纷纷要求电气升级，要求做到单头单控，我们用台达工控套件产品开发出了性价比极高的系统。

G72042 THK GL15S16+1250L Positioning Linear Stage

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A58604 (2) Varian 3700 Gas Chromatograph, Autosampler

N72631 Welch 2025 Self Cleaning Dry Vacuum System

K72111 BioCad Perfusion Chromatography LAB Workstation

N72630 Bio/Data PAP-4 Platelet Aggregation Profiler

A72284 Nanometrics 7200 Film Thickness System, Olympus

C72666 MECS Asyst OF250 Wafer Prealigner & Controller

C53058 Eutectic Heated Work Holder 6″ Wafer Hot Chuck

C54375 Hot Chuck Wafer Stage 8.25″ w/Digital Controller

A52645 NuAire NU-3700 Dual CO2 Water Jacketed Incubator

C68411 Bradley GPS Positioning Navigation Test Station

AT51338 Daikin Industries UBR3E6 Brine Chilling Unit

A70133 VWR 1350F Lab Oven: 175°C, 19*18*17H

A72763 HP 59864A Ionization Gauge Controller

CT50715 Asyst CS-3500NS UTM-3500NS Wafer Robot Control

C52037 Reznor Dual Natural Gas Heater System (1.66CFM)

C53165 SensArray 8″ Instrumented Wafer 1501B-8-0053

C53164 SensArray 8″ Instrumented Wafer 1530B-8-0109

C53162 SensArray 8″ Instrumented Wafer 1530B-8-0110

C53160 Lot 2 LSI Logic 8″ Instrumented Test Wafers

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